Система напыления токопроводящих покрытий для электронной микроскопии Q150T S Plus

Система напыления токопроводящих покрытий для электронной микроскопии Q150T S Plus

Напылительная установка с турбомолекулярной откачкой Q150T Plus производства Quorum Technologies Ltd. предназначена для пробоподготовки для электронной микроскопии, а именно для напыления образцов окисляющимися металлами и углеродом. Также она обладает возможностью термического испарения металлов.

Установка Q150T Plus выпускается в трёх версиях:

  • Q150T S Plus – установка для магнетронного распыления окисляющихся металлов. Доступные металлы: Cr, Ir, W, Al, Co, Fe, Mg, Mo, Ni, Ti, Ta, Au, Ag, Pd, Pt и Cu.
  • Q150T E Plus – установка для испарения углерода, термического испарения металлов и чистки апертур. Доступные материалы: углеродная нить, углеродный шнур, углеродные стержни, Mo, W. Возможен режим тлеющего разряда.
  • Q150T ES Plus – комбинированная установка для напыления как металлами, так и углеродом, а также для термического испарения металлов (Mo, W) и чистки апертур. Возможен режим тлеющего разряда.

Напылительная установка Q150T Plus предназначена для применения в подготовке образцов для электронной микроскопии и не является профессиональным или технологическим напылительным прибором.

Рекомендуемые области применения

  • Высокие увеличения в электронной микроскопии (от 50 000 крат и выше)
  • Защитные покрытия для FIB
  • Изучение и разработка коррозионностойких, устойчивых к трению и износостойких покрытий
  • Защитные покрытия медицинских приборов
  • Получение BSE изображений
  • Напыления образцов для настольного электронного микроскопа
  • Элементный анализ (EDS, WDS) и микротекстурный анализ (EBSD)
  • Напыление реплик углеродом

Новый пользовательский интерфейс

  • Лёгкий в использовании ёмкостный сенсорный дисплей
  • Обширный встроенный help
  • Наличие USB позволяет легко производить обновление программного обеспечения, а также копировать файлы рецептов напыления на флешку
  • Выгрузка логов процесса напыления в формате .csv для анализа в Excel или аналогичной программе
  • 16 Гб памяти позволяет хранить более 1000 рецептов напыления
  • Двухядерный ARM процессор для быстрого отзывчивого дисплея

Несколько пользователей могут вносить и хранить рецепты напыления, добавлена возможность сортировать рецепты по пользователю в согласии с недавним использованием.
Интеллектуальная система автоматически определяет, какая вставка для напыления установлена в данный момент и затем автоматически выбирает подходящие рабочие параметры и настройки для данного процесса напыления.
Система автоматически подбирает подходящие параметры для выбранного материала напыления.
Интуитивное программное обеспечение позволяет быстро вносить и хранить свои данные процессов напыления даже самому неопытному пользователю. Некоторое число типовых рецептов напыления уже внесены в память установки, но пользователь также может создавать свои собственные рецепты.
Программа определяет сбой при попытке достичь вакуума в установленный период времени и останавливает процесс в случае утечки вакуума, что обеспечивает защиту насоса от перегрева.

Автоматическое, управляемое импульсное испарение углеродного шнура

Аккуратное испарение позволяет точно контролировать толщину напылённого слоя углерода (с или без измерителя толщины напыления). Качество результирующего углеродного покрытия также улучшено ликвидацией «искрения», которое является общей чертой всех менее совершенных напылительных приборов.

Для получения воспроизводимых высококачественных углеродных покрытий рекомендуется использовать заточенные углеродные стержни. Стержни обладают более высокой чистотой материала, менее склонны к образованию осколков углерода и легче поддаются контролю толщины напыления. Рецепты импульсного и постепенного испарения углеродного стержня занесены в типовые рецепты напыления.

Холодное магнетронное распыление

Магнетронное распыление это метод, широко используемые в различных приложениях: можно создать плазму и испарять металлы высоким напряжением, в невысоком вакууме и без автоматизации. Однако, данный метод не годится для применений в электронной микроскопии, поскольку образец будет нагреваться и может быть повреждён в результате взаимодействия плазмы с образцом. Напылительная установка Q150T Plus использует низкотемпературный магнетрон, скомбинированный с низким током и контролем осаждения, что обеспечивает защиту образца и его однородное напыление.

Приборы Q150T S Plus и Q150T ES Plus используют легко меняемые мишени в виде диском диаметром 57 мм, которые спроектированы для распыления различных металлов. В стандартной поставке версий Q150T S Plus и Q150T ES Plus есть мишень из хрома.

Доступны также: Cr, Ir, W, Al, Co, Fe, Mg, Mo, Ni, Ti, Ta, Au, Ag, Pd, Pt и Cu. 

Сменные вставки для распыления

Сменные вставки для распыления позволяют пользователю конфигурировать прибор для магнетронного распыления металлов, испарения углерода, термического испарения металлов или тлеющего разряда – всё в одном. Прибор автоматически определяет тип вставки для распыления при её смене

Съёмная камера напыления с защитой от имплозии (взрыва вовнутрь)

Съёмная камера напыления обеспечивает лёгкую чистка прибора. При необходимости пользователи могут быстро сменить камеру напыления, чтобы избежать перекрёстного загрязнения чувствительных образцов. Доступна камеры увеличенной высоты, которая позволяет напылять высокие образцы, избежать нагрева образца, а также улучшить однородность распыления. 

Столики образцов

Q150T Plus обладает столиками образцов, способными удовлетворить большинству требований. Все столики легко меняются, устанавливаются и регулируются по высоте (за исключением столика с планетарной моделью вращения).

Некоторые примеры столиков:

  • Базовый вращающийся столик диаметром 50 мм. Можно разместить на нём до 6 столиков образцов для электронной микроскопии. Высота столика устанавливается предварительно перед процессом напыления.
  • Вращающийся столик диаметром 50 мм с регулируемыми углом наклона для более однородного напыления. Угол наклона и высота устанавливаются предварительно перед процессом напыления.
  • Столик с планетарной моделью вращения для образцов сложной формы.
  • Большой плоский вращающийся столик со смещённой осью для 4″ /100 мм пластин.

Безопасность

Напылительная установка Q150T Plus отвечает всем ключевым промышленным стандартам Совета Европы (CE):

  • Все электронные компоненты защищены крышками.
  • Защита от имплозии (взрыва вовнутрь) предохраняет пользователя от травм в случае неисправности камеры напыления.
  • Вакуумные блокираторы обесточивают источники осаждения для защиты пользователя от высокого напряжения в случае открытия камеры напыления.
  • Электрические блокираторы обесточивают прибор, когда открыта крышка камеры напыления.
  • Защита от перегрева отключает питание установки.

Габариты

585 мм (ширина) × 521 мм (глубина) × 410 мм (высота)

Высота с поднятой крышкой камеры напыления: 650 мм

Вес

32 кг

Камера напыления

Боросиликатное стекло 150 мм (внутренний диаметр) × 127 мм (высота)

Дисплей

Емкостной сенсорный дисплей, формат 640 × 480

Активная область: 115.5 мм (ширина) × 86.4 мм (высота)

Пользовательский интерфейс

Полностью графический интерфейс с сенсорными кнопками, включает в себя такие опции, как лог-файл последних 1000 напылений и напоминания о том, когда необходимо произвести техническое обслуживание установки.

Мишень

В комплекте с версиями T S и T ES идёт мишень из хрома в виде диска 57 мм (диаметр) × 0.3 мм (толщина)

Другие мишени доступны опционально

Столик образцов

Вращающийся столик диаметром 50 мм со скоростью вращения 8 – 20 об/мин

Другие столики доступны опционально

Вакуум

Насосы: двухступенчатый роторный насос с малоуловительным фильтром и скоростью откачки 5 м3/ч и турбомолекулярный насос со скоростью откачки 67 л/с

Измерение вакуума: датчик Пирани. Доступен датчик измерения вакуума с увеличенным диапазоном.

Наивысший вакуум: 5 × 10-5 мбар (значение при чистом приборе после предварительной откачки осушенным азотом)

Диапазон рабочего вакуума: 5 × 10-3 – 1 × 10-1 мбар

Процессы

Магнетронное распыление металлов: Cr, Ir, W, Al, Co, Fe, Vg, Mo, Ni, Ti, Ta, Au, Ag, Pd, Pt и Cu.

Ток магнетронного распыления: 0 – 150 мА 

Максимальное время магнетронного распыления: 60 минут (без нарушения вакуума и с автоматическими циклами охлаждения)

Испарение углеродной нити/шнура и углеродных стержней.

Термическое испарение металлов, чистка апертур: Mo, W.

Режим тлеющего разряда: делает поверхность образца гидрофильной/гидрофобной.

Визуальный индикатор процесса

Большой цветной дисплей предоставляет визуальную индикацию состояния оборудования, позволяя пользователям легко идентифицировать стадию процесса на расстоянии.

  • Индикатор показывает следующие стадии:
  • Инициализация процесса
  • Процесс запущен
  • Бездействие
  • Напыление в процессе
  • Процесс завершён
  • Процесс завершился неисправностью

Звуковая индикация также сигнализирует о завершении процесса