28123 ФР.1.27.2017.27749 Измерение линейных размеров элементов рельефа поверхности ступенчатой формы по вертикальной оси с использованием принципов фотограмметрии при помощи микроскопа электронного растрового S-4800 в диапазоне измерений линейных размеро

Аттестующая организация

НазваниеЗначение
Наименование аттестующей организацииАО "НИЦПВ"
Номер аттестата аккредитации№ 01.00317-2011
Адрес аттестующей организации119421, Москва, ул. Новаторов, д. 40, корп. 1
Телефон аттестующей организацииНет данных
E-mail аттестующей организацииНет данных

Сведения о разработчике МВИ

НазваниеЗначение
Разработчик МВИАО «НИЦПВ»
Наименование разработчика МВИАО «НИЦПВ»
Адрес разработчика МВИ119421, 119421, г. Москва, ул. Новаторов, д. 40, корп. 1

Сведения об аттестованной методике (методе) измерений

НазваниеЗначение
Номер в реестреФР.1.27.2017.27749
Раздел реестраВне сферы обороны
Вид методикиМетодика (метод) измерений
Назначение методикиИзмерение линейных размеров элементов рельефа поверхности ступенчатой формы по вертикальной оси с использованием принципов фотограмметрии при помощи микроскопа электронного растрового S-4800 в диапазоне измерений линейных размеров по вертикальной оси от 2 нм до 60 мкм.
Наименование документа на методикуЛинейные размеры элементов рельефа поверхности ступенчатой формы по вертикальной оси. Методика измерений с использованием принципов фотограмметрии при помощи микроскопа электронного растрового S-4800.
№ свидетельства об аттестации241/01.00317-2011/2016
Дата свидетельства об аттестации08.06.2016
Вид измеренийГеометрические измерения
Метод измеренийМетод измерений основан на получении двух изображений исследуемого объекта в растровом электронном микроскопе S-4800 при двух углах наклона объекта и последующей обработкой полученных изображений, используя принципы фотограмметрии.
Измеряемая величинаЛинейные размеры элементов рельефа поверхности ступенчатой формы по вертикальной оси.
Пределы измеренийОт 2 нм до 60 мкм.
Характеристика погрешностиПогрешность измерений линейных размеров (H, нм) элементов рельефа ступенчатой формы по вертикальной оси, нм: - в диапазоне от 2 нм до 150 нм ±0,6; - в диапазоне от 150 нм до 300 нм ±0,8; - в диапазоне от 300 нм до 500 нм ±1; - в диапазоне от 500 нм д
СтатусДействует

Вложения

НазваниеЗначение

Общие сведения

НазваниеЗначение
Номер записи28123
Дата опубликования18.04.2018
18 000.00 

Количественный морфологический анализ и измерение линейных размеров микрорельефа поверхности твердотельных структур.

Применяется в материаловедении, микроэлектронике и полупроводниковых технологиях, геологии, биологии, медицине, металлургии. Оснащен автоэмиссионным катодом холодного типа.

Микроскоп обеспечивает работу в режимах регистрации вторичных,  отраженных электронов и в режиме «напросвет».

Основные технические характеристики

Разрешение при ускоряющем напряжении 15кВ   
1нм

Разрешение при ускоряющем напряжении 1кВ
1,5 нм

Эффективный диаметр электронного зонда во вторичных электронах при 15кВ
не более 10 нм.

Диапазон регулировки увеличения
30¸800000 крат.

Диапазон измерения линейных размеров
0,02¸10000 мкм

Погрешность измерений линейных размеров не более
5 %.

Диапазон регулировки ускоряющего напряжения
0,1¸30 кВ

Производитель:
Hitachi, Япония

+