Search resultsProducts found: 91







60 000.00 

Изучение многослойных структур в режиме СПЭМ, включая исследование элементного состава образца по линии на двухлучевом сканирующем электронном микроскопе Helios G4 UXe FPIB/SEM

+








30 000.00 

Изучение морфологии поверхности образца на двухлучевом сканирующем электронном микроскопе Helios G4 UXe PFIB/SEMс детектором обратно рассеянных электронов

+






24 000.00 
Исследование элементного состава образца с картированием по 3 областям на сканирующем электронном микроскопе Quattro  с возможностью работы в низком...
+



24 000.00 

Количественный анализ элементного состава образца методом энергодисперсинной рентгенофлуоресцентной спектроскопии

+

24 000.00 

Количественный анализ элементного состава образца методом энергодисперсинной рентгенофлуоресцентной спектроскопии

+

20 000.00 

Микроскоп электронно-ионный растровый JIB-4500 предназначен для измерений линейных размеров элементов топологии микрорельефа поверхности твердотельных материалов и проведения локальной структурной модификации поверхности твердотельных объектов ионным пучком.

Предназначен для управляемого локального травления сфокусированным ионным пучком проводящих и непроводящих объектов с заданным рисунком. В совокупности с микроманипулятором  IB-32010FPUS идеально подходит для оперативной подготовки образцов из выбранной области для исследования в ПЭМ.

+






18 000.00 

Количественный морфологический анализ и измерение линейных размеров микрорельефа поверхности твердотельных структур.

Применяется в материаловедении, микроэлектронике и полупроводниковых технологиях, геологии, биологии, медицине, металлургии. Оснащен автоэмиссионным катодом холодного типа.

Микроскоп обеспечивает работу в режимах регистрации вторичных,  отраженных электронов и в режиме «напросвет».

Основные технические характеристики

Разрешение при ускоряющем напряжении 15кВ   
1нм

Разрешение при ускоряющем напряжении 1кВ
1,5 нм

Эффективный диаметр электронного зонда во вторичных электронах при 15кВ
не более 10 нм.

Диапазон регулировки увеличения
30¸800000 крат.

Диапазон измерения линейных размеров
0,02¸10000 мкм

Погрешность измерений линейных размеров не более
5 %.

Диапазон регулировки ускоряющего напряжения
0,1¸30 кВ

Производитель:
Hitachi, Япония

+




16 000.00 
Двухлучевой сканирующий электронный микроскоп Helios G4 Plasma FIB Uxe оснащен двумя колонами электронной Elstar с высокоточной технологией UC+ для...
+

15 950.00 
Описание лабораторного тестирования: Получение изображения поверхности образца методом сканирующей электронной микроскопии Используемое...
+



14 000.00 

Исследование морфологии частиц на сканирующем электронном микроскопе с возможностью работы в низком вакууме SEM Quattro S 

+

14 000.00 

Исследование элементного состава образца на сканирующем электронном микроскопе с возможностью работы в низком вакууме Quattro S

+

12 000.00 

Лабораторный анализ на инфракрасном спектрометре ИК-спектроскопия  

+



12 000.00 

Качественный анализ состава образца (органических соединений) методом высокоэффективной жидкостной хромато-масс-спектрометрии (ионизация электрораспылением)

+