Изучение морфологии поверхности образца на двухлучевом сканирующем электронном микроскопе Helios G4 UXe PFIB/SEMс детектором обратно рассеянных электронов
Микроскоп электронно-ионный растровый JIB-4500 предназначен для измерений линейных размеров элементов топологии микрорельефа поверхности твердотельных материалов и проведения локальной структурной модификации поверхности твердотельных объектов ионным пучком.
Предназначен для управляемого локального травления сфокусированным ионным пучком проводящих и непроводящих объектов с заданным рисунком. В совокупности с микроманипулятором IB-32010FPUS идеально подходит для оперативной подготовки образцов из выбранной области для исследования в ПЭМ.
Изучение морфологии, микроструктуры, размера частиц, толщины пленок, гетероструктур их элементного и фазового составов, кристаллографической ориентировки зерен
Исследование физико-химических свойств поверхности нанообъектов и наноструктур с помощью современных методов зондовой микроскопии. Точность измерения перемещения (система сканирования) по вертикали 0,1 нм, в латеральном направлении – 1 нм.
Возможна работа в режиме АСМ и СТМ.
Возможность работы в контактном, прерывисто-контактном и бесконтактном режиме.
Производитель: ЗАО “НТ-МДТ”, Россия
Основные технические характеристики
Диффузионная длина (LD) 10 ÷ 2000 мкм при LD < t
Концентрация металла (Fe) 10⁹ ÷ 10¹³ см⁻³
Погрешность измерений: 15 ÷ 30 >#/p###
Количественный морфологический анализ и измерение линейных размеров микрорельефа поверхности твердотельных структур.
Применяется в материаловедении, микроэлектронике и полупроводниковых технологиях, геологии, биологии, медицине, металлургии. Оснащен автоэмиссионным катодом холодного типа.
Микроскоп обеспечивает работу в режимах регистрации вторичных, отраженных электронов и в режиме «напросвет».
Разрешение при ускоряющем напряжении 15кВ 1нм
Разрешение при ускоряющем напряжении 1кВ1,5 нм
Эффективный диаметр электронного зонда во вторичных электронах при 15кВне более 10 нм.
Диапазон регулировки увеличения30¸800000 крат.
Диапазон измерения линейных размеров0,02¸10000 мкм
Погрешность измерений линейных размеров не более5 %.
Диапазон регулировки ускоряющего напряжения0,1¸30 кВ
Производитель:Hitachi, Япония
Количественный морфологический анализ и измерение линейных размеров микрорельефа поверхности твердотельных структур, элементный анализ от В до U на растровом электронном микроскопе JSM-6460LV и микроприставкой INCAX-SIGHT
Исследование морфологии частиц на сканирующем электронном микроскопе с возможностью работы в низком вакууме SEM Quattro S
Измерение поверхности: лазерный сканирующий микроскоп LSM 5 Exciter - с помощью лазерного сканирующего микроскопа LSM 5 Exciter компания Carl Zeiss MicroImaging предлагает пользователям, занимающимся исследованиями материалов и анализом качества, микроскопическую систему, которая также анализирует относительно мягкие материалы, такие как полимеры, с помощью бесконтактной процедуры и с высокой точностью измерения и разрешением. Микроскоп увеличивает скорость, надежность и удобство анализа материала. Специальные функции программного обеспечения позволяют проводить количественный анализ поверхности и анализ материалов. С помощью бесконтактной конфокальной техники можно визуализировать и измерить 2D- и 3D-топографии, определить шероховатость и волнистость, а также измерить пористость и объемное содержание с высокой степенью качества и надежности.
Атомно силовой микроскоп P100/P150 обладает возможностью проводить сканирование образцов с субнанометровым разрешением по оси Z , микроскоп P100 / P150 может быть использован для получения и анализа изображений с высокой разрешающей способностью. Интегрированный сканер с низким уровнем шума и с открытым контуром позволяет быстро и эффективно проводить эксперименты на 15 мкм на 15 мкм.
Анализ поверхности материалов и образцов методами оптической микроскопии на прямом микроскопе Carl Zeiss Axio Imager M2